产品描述
上海伯东代理美国考夫曼博士设立的考夫曼公司 KRI 射频离子源 RFICP 220, 大面积高能量栅网离子源.
离子束流: >800 mA; 离子动能: 100-1200 V; 中和器: LFN 2000; 流量(Typical flow): 10-40 sccm; 压力: < 0.5m Torr
离子束可聚焦, 平行, 散射.
采用射频技术产生离子, 无需电离灯丝, 工艺时间更长.
通入气体可选 Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, others.
美国 KRI 射频离子源 RFICP 220 技术参数：
伯东 KRI 射频离子源 RFICP 220 技术参数:
| portant;"> 离子源型号 | portant;"> RFICP 220 |
| portant;"> Discharge | portant;"> RFICP 射频 |
| portant;"> 离子束流 | portant;"> >800 mA |
| portant;"> 离子动能 | portant;"> 100-1200 V |
| portant;"> 栅极直径 | portant;"> 20 cm Φ |
| portant;"> 离子束 | portant;"> 聚焦, 平行, 散射 |
| portant;"> 流量 | portant;"> 10-40 sccm |
| portant;"> 通气 | portant;"> Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
| portant;"> 典型压力 | portant;"> < 0.5m Torr |
| portant;"> 长度 | portant;"> 30 cm |
| portant;"> 直径 | portant;"> 41 cm |
| portant;"> 中和器 | portant;"> LFN 2000 |
* 可选: 灯丝中和器; 可变长度的增量
美国 KRI 射频离子源 RFICP 220 应用领域：
伯东 KRI 射频离子源 RFICP 220 应用领域：
1. 预清洗
2. 表面改性
3. 辅助镀膜(光学镀膜)IBAD,
4. 溅镀和蒸发镀膜 PC
5. 离子溅射沉积和多层结构 IBSD
6. 离子蚀刻 IBE
13884739666