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伯东贸易(深圳)有限公司

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美国 KRI 射频离子源 RFICP 系列

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企业旺铺http://hakuto.chinasmw.cn/

更新日期2021-01-28 10:58

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联系地址:深圳市罗湖区宝安南路1036号鼎丰大厦501室

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商品信息

基本参数

品牌:

未填

所在地:

广东 深圳市

起订:

未填

供货总量:

未填

有效期至:

长期有效
详细说明

  

产品描述

 

上海伯东代理美国考夫曼博士设立的考夫曼公司 KRI 射频离子源, 离子束可选聚焦, 平行, 散射.

离子束流: >100 mA~1500mA; 离子动能: 100-1200 V; 中和器: LFN 2000. 

采用射频技术产生离子, 无需电离灯丝, 工艺时间更长, 更适合时间长的工艺要求. 提供高密度离子束, 满足高工艺需求.

离子源采用模块化设计, 方便清洁/ 保养/ 维修/ 安装

美国 KRI 射频离子源 RFICP 系列 技术参数:

 

射频离子源 RFICP 系列技术参数:

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型号

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RFICP 40

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RFICP 100

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RFICP 140

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RFICP 220

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RFICP 380

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Discharge

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RFICP 射频

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RFICP 射频

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RFICP 射频

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RFICP 射频

portant;">

RFICP 射频

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离子束流

portant;">

>100 mA

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>350 mA

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>600 mA

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>800 mA

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>1500 mA

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离子动能

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100-1200 V

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100-1200 V

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100-1200 V

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100-1200 V

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100-1200 V

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栅极直径

portant;">

4 cm Φ

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10 cm Φ

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14 cm Φ

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20 cm Φ

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30 cm Φ

portant;">

离子束

portant;">

聚焦, 平行, 散射

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流量

portant;">

3-10 sccm

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5-30 sccm

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5-30 sccm

portant;">

10-40 sccm

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15-50 sccm

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通气

portant;">

Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他

portant;">

典型压力

portant;">

< 0.5m Torr

portant;">

< 0.5m Torr

portant;">

< 0.5m Torr

portant;">

< 0.5m Torr

portant;">

< 0.5m Torr

portant;">

长度

portant;">

12.7 cm

portant;">

23.5 cm

portant;">

24.6 cm

portant;">

30 cm

portant;">

39 cm

portant;">

直径

portant;">

13.5 cm

portant;">

19.1 cm

portant;">

24.6 cm

portant;">

41 cm

portant;">

59 cm

portant;">

中和器

portant;">

LFN 2000

美国 KRI 射频离子源 RFICP 系列 应用领域:

伯东 KRI 射频离子源 RFICP系列离子源应用:

1. 离子辅助镀膜 IBAD( Ion beam assisted deposition in thermal & e-beam evaporation )

2. 离子清洗 PC (In-situ preclean in sputtering & evaporation )

3. 表面改性激活 SM (Surface modification and activation )

4. 离子溅镀IBSD (Ion beam sputter deposition of single and multilayer structures)

5. 离子蚀刻 IBE (Ion beam etching of surface features in any material)

 


 
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